Litografía ultravioleta extrema

La litografía ultravioleta extrema (EUVL) es una tecnología avanzada para fabricar microprocesadores cientos de veces más potentes que los actuales. Intel, AMD y Motorola se han asociado con el Departamento de Energía de Estados Unidos en un proyecto de tres años para desarrollar un microchip con una máscara de menos de 0,1 micras de ancho. (Los circuitos actuales suelen tener una anchura de 0,18 micras o más). Un microprocesador con tecnología EUVL sería cientos de veces más potente que un ordenador actual. Los chips de memoria podrían almacenar 1000 veces más información que en la actualidad.

La UVL es una tecnología que se presta a sustituir a la litografía óptica, que se utiliza para fabricar los microcircuitos actuales. Funciona quemando fuertes haces de luz ultravioleta, que se reflejan en el patrón del diseño del circuito, en una oblea de silicio. La EUVL es similar a la litografía óptica, en la que la luz se desvía hacia la oblea a través de lentes de cámara. Sin embargo, la luz ultravioleta extrema, que funciona a una longitud de onda diferente, tiene propiedades distintas y debe reflejarse a través de espejos en lugar de ser desviada por una lente. El reto consiste en construir un espejo lo suficientemente perfecto como para reflejar la luz con suficiente precisión. Intel está trabajando en los primeros prototipos. Mientras tanto, la litografía óptica seguirá avanzando en los próximos años hasta que sea sustituida por tecnologías más novedosas como la EUVL.

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